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Poids de l’Open access dans la production CNRS

Titre

Improvement of etching and cleaning methods for integration of raised source and drain in FD-SOI technologies

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BSO - Titre

Improvement of etching and cleaning methods for integration of raised source and drain in FD-SOI technologies

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DOI

DOI10.1016/j.mee.2017.04.009

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DOAI

DOAI10.1016/j.mee.2017.04.009

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Identifiant WoS

WOS:000405975800012

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Accès ouvert

OA - Oui

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Source - Accès ouvert

OA - Non

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Type d'accès

Archive

XX

Editeur

Elsevier

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Source

MICROELECTRONIC ENGINEERING

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ISSN

0167-9317

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Type de document

Article

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Notoriété

3 - Correcte

XX

CNRS

Oui

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CNRS - Institut

INP - Institut de physique

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